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[判断题]

华星的工艺制程中，使用物理气相沉积法镀非金属层，化学气相沉积法镀氧化铟锡层（）

答案

是

发布时间：2023-08-14

更多“华星的工艺制程中，使用物理气相沉积法镀非金属层，化学气相沉积法镀氧化铟锡层（）”相关的问题

第1题

以下属于原子沉积的是（)。

A.热浸镀

B.激光表面处理

C.物理气相沉积

D.搪瓷涂敷

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第2题

以下技术属于物理气相沉积的有（)。

A.真空蒸镀

B.溅射镀膜

C.离子镀

D.等离子弧喷涂

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第3题

常见的物理气相沉积技术有哪几项（)。

A.真空蒸镀

B.溅射镀膜

C.离子镀膜

D.分子束外延技术

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第4题

表面复合技术包括（)。

A.物理气相沉积技术

B.化学气相沉积技术

C.热喷涂技术

D.电镀、化学镀和复合镀技术

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第5题

物理气相沉积法的共同特点？

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第6题

气相沉积法包括物理气相沉积法PVD和化学气相沉积法CVD。（)

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第7题

物理气相沉积法主要采用加热-蒸发-镀膜方法完成，其对环境的要求是（)？

A.需要很大的空间

B.需要真空环境

C.需要干燥的空气环境

D.没什么需要

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第8题

物理气相沉积装置和化学气相沉积装置均为真空装置。（)

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第9题

（)是将电解液中的金属离子在直流电的作用下，在阴极上沉积出金属而形成镀层的工艺过程。A．热镀B．渗

是将电解液中的金属离子在直流电的作用下，在阴极上沉积出金属而形成镀层的工艺过程。

A．热镀

B．渗镀

C．电镀

D．喷镀

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第10题

蒸镀部有哪几个科室（）

A.气相沉积科

B.喷墨打印科

C.封装贴合科

D.离子植入科

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第11题

（)是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

A.蒸镀

B.溅射

C.离子注入

D.CVD

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